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  • GMD2000/4無(wú)機材料納米級濕法研磨設備
    無(wú)機材料納米級濕法研磨設備

    無(wú)機材料納米級濕法研磨設備的特點(diǎn) 1更穩定 采用優(yōu)化設計理念,將的技術(shù)與創(chuàng )新的思維有效融合,并體現在具體的設備結構設計中,為設備穩定運行提供了保證. 2 新結構 通過(guò)梳齒狀定子切割破碎,縫隙疏密決定細度大小,超高線(xiàn)速度的吸料式葉輪提供*切割力,纖維濕法研磨破碎可達400目.

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  • GMD2000/4石墨烯超細研磨分散機
    石墨烯超細研磨分散機

    石墨烯超細研磨分散機GMD2000系列研磨分散設備是SGN(上海)公司經(jīng)過(guò)研究剛剛研發(fā)出來(lái)的一款新型產(chǎn)品,該機特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級高剪切均質(zhì)乳化機進(jìn)行改裝,我們將三級變跟為一級,然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭,使物料可以先經(jīng)過(guò)膠體磨細化物料,然后再經(jīng)過(guò)乳化機將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據物料要求進(jìn)行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供

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  • GMD2000/4納米級德國高速樹(shù)脂研磨分散機
    納米級德國高速樹(shù)脂研磨分散機

    納米級德國高速樹(shù)脂研磨分散機的特點(diǎn): 1、定轉子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。 2、齒列的深度:從開(kāi)始的2.7mm 到末端的0.7mm,范圍比較大,范圍越大,處理的物料顆粒大小越廣。 3、溝槽的結構式斜齒,每個(gè)磨頭的溝槽深度不一樣,并且斜齒的流道的體積從上往下是從大到下。

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  • GMD2000/4管線(xiàn)式濕法研磨分散機
    管線(xiàn)式濕法研磨分散機

    管線(xiàn)式濕法研磨分散機的特點(diǎn) 1更穩定采用優(yōu)化設計理念,將的技術(shù)與創(chuàng )新的思維有效融合,并體現在具體的設備結構設計中,為設備穩定運行提供了保證. 2新結構通過(guò)梳齒狀定子切割破碎,縫隙疏密決定細度大小,超高線(xiàn)速度的吸料式葉輪提供*切割力,纖維濕法研磨破碎可達400目. 3更可靠采用整體式機械密封,*上解決了高速運轉下的物料泄漏以及冷卻介質(zhì)污染等問(wèn)題,安裝與更換方便快捷.

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  • GMD2000管線(xiàn)式電子廢液研磨分散機
    管線(xiàn)式電子廢液研磨分散機

    【GMD2000系管線(xiàn)式電子廢液研磨分散機列的特點(diǎn)】 ①具有非常高的剪切速度和剪切力,粒徑約為0.2-2微米可以確保高速分散乳化的穩定性。 ②該設備可以適用于各種分散乳化工藝,也可用于生產(chǎn)包括對乳狀液、懸浮液和膠體的均質(zhì)混合。 ③三級研磨分散機由定、轉子系統所產(chǎn)生的剪切力使得溶質(zhì)轉移速度增加,從而使單一分子和宏觀(guān)分子媒介的分解加速。

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  • GMD2000管線(xiàn)式石墨烯研磨分散機
    管線(xiàn)式石墨烯研磨分散機

    GMD2000系列管線(xiàn)式石墨烯研磨分散機的結構:研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。 *級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。 第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好地滿(mǎn)足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。 石墨烯研磨分散機在設計上的突出特點(diǎn):

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