膠片用染料研磨均質(zhì)機GMD2000系列研磨分散機的結構：研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。*級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。
色漿研磨均質(zhì)機，漿料研磨均質(zhì)機,色漿研磨機，高剪切研磨均質(zhì)機此機器采用了二級處理結構,*級采用了高剪切研磨均質(zhì)機的磨頭模塊,第二季采用了高剪切分散乳化機的分散乳化模塊,第二級模塊可根據客戶(hù)對物料的處理要求開(kāi)配定轉子,定轉子可配2P,2G,4M,6F,8SF,且定轉子精密度都達到了水平。
電影膠片用染料研磨均質(zhì)機是SGN（上海）公司2013研發(fā)出來(lái)的一款新型產(chǎn)品,該機特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。
膠片用染料研磨均質(zhì)機GMD2000系列研磨分散機的結構：
研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。
*級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。
第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好地滿(mǎn)足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線(xiàn)式的定子和轉子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是：在粗精度,中等精度,細精度和其他一些工作頭類(lèi)型之間的區別不光是轉子齒的排列,還有一個(gè)很重要的區別是 不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數,狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉子工作頭的不同功能。根據以往的慣例,依據以前的經(jīng)驗工作頭來(lái)滿(mǎn) 足一個(gè)具體的應用。在大多數情況下,機器的構造是和具體應用相匹配的,因而它對制造出zui終產(chǎn)品是很重要。當不確定一種工作頭的構造是否滿(mǎn)足預期的應用。
研磨均質(zhì)機選型表
研磨分散機 | 流量* | 輸出 | 線(xiàn)速度 | 功率 | 入口/出口連接 | |
類(lèi)型 | l/h | rpm | m/s | kW |
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GMD 2000/4 | 300 | 9,000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 | |
GMD 2000/5 | 1000 | 6,000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 | |
GMD 2000/10 | 3000 | 4,200 | 23 | 22 | DN80/DN65 | |
GMD 2000/20 | 8000 | 2,850 | 23 | 37 | DN80/DN65 | |
GMD 2000/30 | 20000 | 1,420 | 23 | 55 | DN150/DN125 | |
GMD2000/50 | 60000 | 1,100 | 23 | 110 | DN200/DN150 | |
*流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性，同時(shí)流量可以被調節到zui大允許量的10%。 | ||||||
色漿 SGN研磨均質(zhì)機有很高的線(xiàn)速度,以及特殊上深下淺的三級磨頭結構,一次處理即可滿(mǎn)足細化要求。*級刀頭形狀,可以把相對大塊的物料進(jìn)行初步粉碎,以便能順利通過(guò)更細的兩級進(jìn)行細微化研磨。 磨頭齒列深度為從開(kāi)始的 2.7mm 到末端的0.7mm,除了更精密之外,上深下淺的齒列結構,相較溝槽是直線(xiàn),同級的溝槽深度一樣的磨頭,可以保證物 料從上往下一直在進(jìn)行研磨。雖和其它產(chǎn)品一樣磨頭采用三級磨齒,但他們只能在一級磨頭到另外一級磨頭形成研磨效果。
色漿研磨均質(zhì)機為立式分體結構,精密的零部件配合運轉平穩,運行噪音在73DB以下。同時(shí)采用德國博格曼雙端面機械密封,并通冷媒對密封部分進(jìn)行冷卻,把泄露概率降到zui低,保證機器連續24小時(shí)不停機運行。
產(chǎn)品相關(guān)關(guān)鍵字： 膠片用染料研磨均質(zhì)機 超高速研磨均質(zhì)機 納米研磨均質(zhì)機 三級研磨均質(zhì)機 高剪切研磨均質(zhì)機
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